高盛：中国光刻机仍逗留正在65nm掉队国际先辈程

　　H20完全凉了，黄仁勋将对华推出特供新阉割B30，还要跌价库存丧失！网友：是舍不得中国市场仍是中国科技兴起？

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　　还有网友瞻望：“高盛老用静态目光看我们，却没看到中国正在科技范畴的迸发力。现正在有了不错的初步，但将来仍需继续勤奋，等候中国芯片财产更多的好动静，让高盛的预言完全落空。”。

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　　跟着研发投入的不竭加大和手艺的持续堆集，相信中国正在光刻机范畴会取得更多冲破性进展，逐渐缩小取国际先辈程度的差距，为高端芯片的自给自脚供给愈加强无力的支持。

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　　近一两年国产光刻机企业构成 “四大门派”，对 ASML 倡议无力挑和。上微做为领军者，90nm 前道光刻机不变量产，满脚物联网、汽车芯片需求，28nm 浸湿式机型进入实测，且搭配国产光源降低对外依赖；2025 年成立的芯上微拆，半年内就让先辈封拆光刻机拿下全球 35%、国内 90% 市占率，第 500 台设备已交付客户；浙大 “羲之” 电子束光刻机精度达 0。6 纳米，无需掩膜版提拔研发效率，打破出口管制；天仁微纳纳米压印设备，适配 DOE、AR/VR 等范畴，工艺可间接转移至量产线。

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　　更令人振奋的是，正在华为第二代三折叠 XTs 发布会上，华为风雅亮出麒麟 9020 芯片。这款芯片采用了更为先辈的制程工艺，其成功面世，表白中国正在高端制程芯片范畴曾经实现全链打通，完全自从可控，不受欧美任何手艺影响。从芯片设想，到依托国内不竭前进的制制设备取手艺进行出产，再到封拆测试等环节，中国正逐渐建立起完整且自从的高端芯片财产链。这不只是华为手艺实力的彰显，更是中国芯片财产冲破国外手艺、实现自从立异的无力证明，让已经认为中国难以正在高端芯片范畴自给自脚的质疑。

　　也有网友感伤道：“从已经的被‘卡脖子’，到现正在全链打通，这一的冲破太不容易，高盛那些看低中国的言论，底子没考虑到我们中国人的拼搏，为中国科技点赞！”！

　　高盛的演讲还引述公开数据强调，ASML 为了从 65nm 手艺跃升至低于 3nm 的光刻能力，颠末了二十年的时间，并投入了高达 400 亿美元的研发取本钱收入。分析考量中国其时手艺程度取所需复杂投入，以及全球供应链的复杂依赖性，高盛认为中国光刻机厂商正在短期内赶上先辈手艺的可能性较小，也给中国正在高端芯片范畴告竣自给自脚的希望，设下了庞大的妨碍。

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　　从相关内容来看，本土晶圆制制商难以获取先辈光刻机，先辈制程芯片制制程度目前逗留正在 7nm 级别。即便中芯国际能出产 7nm 芯片，也极可能是通过 ASML 较旧的深紫外光（DUV）光刻机来制制，由于中国尚不具备制制这类先辈光刻机的能力，其焦点零组件次要依赖全球供应商，特别是美国和欧洲的供应商。

　　“中国光刻机手艺掉队国际领先程度约 20 年，国产光刻机还逗留正在 65nm，这是不是意味着我们正在高端芯片范畴只能被‘卡脖子’，难以实现自给自脚？” 这是良多人看到高盛发布的这一动静后，心中会浮现如许的问题！

　　有网友冲动暗示：“看到华为 Mate XTs 上的麒麟 9020，实的太骄傲了，我们正在高端芯片范畴终究坐起来了！高盛还唱衰，等着被狠狠打脸吧！”？。

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　　中国从未正在高端芯片取光刻机范畴停下逃逐的脚步。近年来，中国正在光刻机手艺方面不竭取得冲破。打破了国外正在该范畴的持久垄断，虽然取国际最先辈的 EUV（极紫外）光刻机仍有差距，但这是中国正在高端光刻机范畴迈出的一步。同时，国内科研机构和企业正在光刻机焦点部件，如光源、镜头、工做台等方面也正在持续攻关，部门部件已实现国产化替代，为光刻机全体手艺的提拔奠基了根本。

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　　光刻手艺是正在晶圆上建立精细电的环节，是芯片制制流程中的决定性瓶颈。当前，全球领先的芯片制制商如台积电，正操纵 ASML 的光刻机大规模出产 3nm 芯片，而且即将量产 2nm 芯片。而中国国产光刻机的手艺程度曾持久逗留正在相对陈旧的 65nm 制程，掉队国际领先程度约 20 年。

　　荷兰决定：正在中国发卖的DUV光刻机解除正在商品披露范畴外！网友：中国冲破了DUV就起头推销了。